盛美上海声明：公司与 Semes 前雇员涉嫌盗取技术

集微网消息 6 月 1 日，盛美上海在投资者互动平台回应投资者关于“近期有国内媒体引源韩媒 Korea Herald 报道，关于韩国检方已介入三星子公司同时也是其供应商的 Semes 前雇员涉嫌参与盗取技术的案件。请问该事件是否与盛美有关联？”的问询时表示，我们在这里郑重声明：盛美上海及控股子公司与该事件完全无关。

盛美上海还表示，公司经过几十年的潜心自主差异化创新研发，对已经销售于全球的半导体设备具有完整的全球自主知识产权。截至 2021 年 12 月 31 日，公司及控股子公司拥有已获授予专利权的主要专利 347 项，其中境内授权专利 156 项，境外授权专利 191 项，其中发明专利共计 342 项。盛美在业界首创的 SAPS 兆声波单片清洗技术荣获 2020 年上海市科学进步一等奖。

盛美上海强调，公司一贯坚持，崇尚创新并尊重知识产权。公司坚持差异化国际竞争和原始创新的发展战略，目标是让盛美自主研发的差异化半导体设备服务全中国客户，也服务全球客户。

值得一提的是，盛美上海凭借其深耕集成电路设备产业多年而积累的集成应用经验，掌握了成熟的核心关键工艺技术、生产制造能力与原始创新的研发能力，拥有成熟的供应链管理和制造体系，同时契合集成电路产业链中下游应用市场所需。公司凭借先进的技术和丰富的产品线，已发展成为中国大陆少数具有一定国际竞争力的半导体设备供应商，产品得到众多国内外主流半导体厂商的认可，并取得良好的市场口碑。

据了解，盛美上海经过多年持续的研发投入和技术积累，先后开发了单片清洗、槽式清洗以及单片槽式组合清洗等清洗设备，用于芯片制造的前道铜互连电镀设备、后道先进封装电镀设备，以及用于先进封装的湿法刻蚀设备、涂胶设备、显影设备、去胶设备、无应力抛光设备及立式炉管系列设备等。

盛美上海此前表示，公司通过持续的研发投入和长期的技术、工艺积累，在新产品开发、生产工艺改进等方面形成了一系列科技成果，对公司持续提升产品品质、丰富产品布局起到了关键性的作用。公司取得的科技成果是公司竞争力的重要组成部分，亦是公司产品销售规模得以持续增长的基础。