疫情治好了“光刻机狂想症”

“光刻机狂想症”的主角 ASML 自身也是一个长期主义的赢家。

ASML 最初脱胎于飞利浦的研发机构，从诞生之初就瞄准了光刻机产品，咬定青山，数十年来从未改变。与企业愿景的清晰与坚定相比，ASML 公司一路走来，可谓九死一生，各种困难、浮夸、不确定性、妥协、荒唐，与投资者的持续下注、技术人员的锲而不舍、市场机遇的从天而降，复杂地交织在一起。ASML 也许做错了非常多的事情，但也做对了一件非常重要的事情 —— 长期专注光刻机产品，不畏失败。

最终，在强者林立的光刻机市场，ASML 从一个交不出货的末流供应商，成长为行业巨擘。

针对我国的“光刻机禁令”是 2020 年开始的，那一年，美国将光刻机技术加入出口管制条例，这让国人认识了一种售价可以高达 10 亿元以上的尖端半导体设备，名叫“光刻机”，而且，咱有钱也未必买得到！当时，媒体和舆论就开始大肆讨论，被光刻机问题“卡脖子”之后，中国半导体行业会不会巨震？中国产业何时有能力造出自己的光刻机？

其实，答案就是长期主义。长期主义的好处是可以用时间和步数的积累回答看似无解的难题。与三年前的焦虑和恐慌相较，今天中国的半导体界多了几分淡定。

华为海思是美国芯片制裁的主要对象，华为轮值董事长徐直军在最近的新年致辞中表示，2023 年，是华为在制裁常态化下正常运营的第一年，华为将有质量地活下来。这意味着，华为已经适应了新环境，并重新步入正轨。

另一则消息是，有产业链人士透露消息称，华为 12nm 和 14nm 芯片初步量产已经准备得差不多了。虽然该消息可信度不高，但也许华为海思真的已经离“重生”不远了。

与此同时，国内产业链在光刻机相关技术的研发上也到了交出阶段性答卷的时候。

清华大学在光刻机领域的“标准光源”项目取得突破；上海微电子则已向市场提供 90nm 光刻机，并交付国内首台 2.5D / 3D 先进封装光刻机，同时 28nm 光刻机也处于量产冲刺阶段。也许有人会诟病上海微电子 28nm 国产光刻机的“难产”，但看一看 ASML 的企业历史不难发现，ASML 最初生产出的光刻机的时候又何尝不是一地鸡毛。

三年之后，正不断发生变化的还有全球产业形势。ASML 掌握话语权的 EUV 光刻技术正逐渐进入瓶颈，一方面，ASML 自身同样需要一次技术跳跃；另一方面，不断高企的先进制程芯片生产价格，让大多数科技厂商望而却步。

有业内人士分析，就算台积电用 ASML 最先进的 Hign-NA EUV 光刻机可以制造出 2nm 制程的芯片，但买得起单的厂商也许就只剩下苹果一家了。如果芯片制程演进速度放慢，那么约等于变相为中国产业赢得了时间。

中国有句古话叫，三十年河东三十年河西。在三十年、四十年前的全球光刻机市场，日本公司尼康和佳能曾经是光刻机巨头，如今他们正重整光刻机复兴战略，计划在 2025 年、2026 年，推出有竞争力的产品，积极吸引来自包括中国的买家，与 ASML 在全球市场大战一场。

如果说，三十多年前，当时 ASML 和台积电组成的“弱弱组合”可以一路走来，成为今天的“神雕侠侣”，那么谁说新的跨国组合不会在若干年后笑傲江湖？

天风证券在一份最新研报中指出，2022 年前 7 个月中国的芯片制造企业招标的芯片设备当中，国产化率已达到 36%，较 2020 年初的芯片设备国产化率只有 7.4%，提升了 4 倍，这是中国芯片设备行业的巨大进步。刻蚀机、光刻胶、EDA 软件等原来的“卡脖子”领域都具备了对标国际先进水平的突破和能力。

中国产业链的前进速度和国际形势的风云变幻，让 ASML 这家曾经扬言“即使给中国芯片设备企业提供光刻机图纸，中国也无法生产出 EUV 光刻机”的公司，正向中国市场频频示好，并非常积极地向中国市场出售和交付 DUV 光刻机。

谁也不知道未来会发生什么，也许 ASML 已经意识到未来 2～3 年中，其将面临来自中国和日本的强大产业链挑战，市场格局说变就变，ASML 必须抓住最后的好光景，而不是听从美国人在身后唠唠叨叨。

此一时、彼一时，对待疫情也好，光刻机也罢，我们都到了更加从容和淡定的阶段。中国产业链对光刻机技术的追逐，与其说是“狂想症”，不如说是一曲充满英雄气概与民族特色的半导体行业进击“狂想曲”。

本文来自微信公众号：IT 时报 （ID：vittimes），作者：王昕